等離子清洗機主要是通過氣體放電產生等離子體，其中包含電子、離子、自由基以及紫外線等高能量物質，具有活化材料表面的作用，根據反應類型不同，其清洗技術可分為兩類。等離子體物理清洗，即借助活性粒子和高能射線轟擊而使污染物脫離;等離子體化學清洗，即通過活性粒子與雜質分子反應而使污染物揮發脫離。下面就簡單為大家介紹一下等離子清洗機清洗技術的分類。
 

　　清洗技術的分類：
 

　　(1)激發頻率對清洗機的清洗類型具有一定影響。例如，超聲等離子體發生的反應多為物理反應;微波等離子體發生的反應多為化學反應;而射頻等離子體則涉及到物理、化學雙重反應類型。

 

　　(2)工作氣體種類對清洗機的清洗類型也具有一定影響。例如，惰性氣體Ar2、N2等被激發產生的等離子體主要用于物理清洗，借助轟擊作用使材料表面清潔。反應性氣體O2、H2等被激發產生的等離子體則主要用于清洗機的化學清洗，借助活潑自由基與污染物發生化學反應，產生二氧化碳、水等小分子，從材料表面移除。
 

　　(3)清洗機的清洗類型對清洗效果具有一定的影響。清洗機物理清洗可使材料表面的粗糙度增加，有助于提高材料表面的附著力。清洗機化學清洗可以顯著增加材料表面的含氧、含氮以及其他類型的活性基團，有助于改進材料的表面浸潤性。