從機理上看：等離子清洗機在清洗時通入工作氣體在電磁場的作用下所激發的等離子與物體表面產生物理反應和化學反應。其中，物理反應機制是活性粒子轟擊待清洗表面，使污染物脫離表面zui終被真空泵吸走;化學反應機制是各種活性的粒子和污染物反應生成易揮發性的物質，再由真空泵吸走揮發性的物質，從而達到清洗目的。

　　在使用等離子清洗機，我們用注意以下問題：

　　1.不能用這種方法除去物體表面的切削粉末，這點在清洗金屬表面油垢時表現尤為明顯。

　　2.在應用過程中還發現不能用等離子體清洗很好除去表面粘附的指紋，而指紋是玻璃光學元件上常出現的一種污染物。等離子體清洗也不*不能用于出去指紋，但這需要延長處理時間，這時又不得不考慮到這是他會對基材的性能造成不良的影響。所以還需要采用其他清洗措施進行預處理相配合。結果使清洗工藝過程復雜化。

　　3.實踐證明不能用它清楚很厚的油污，雖然用等離子體清洗少量附著在物體表面的油垢有很好的效果，但是對厚油垢的清除效果往往不佳，一方面用它清除油膜，必須延長處理時間，使清洗的成本大大提高，另一方面有可能是它在與厚油垢相互接觸的過程中，引發油垢分子結構中的不飽和鍵發生了聚合，偶聯等復雜反應而形成較堅硬的樹脂化立體網狀結構有關。一旦形成這類樹脂膜他將很難被清除。因此通常只用等離子體清洗厚度在幾個微米以下的油污。

　　4.由于等離子體清洗過程需要進行真空處理，而且一般為在線為在線或批量生產，因此在把等離子體清洗裝置引進生產線時，必須考慮到被清洗工件的貯存和移送的問題，特別是當被處理工件體積較大，數量較多更應考慮到這個問題。